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中国芯片制造迈出一大步!中科院造出最强紫外超分辨光刻机

时间:2018-12-01 08:55来源:网络 作者:量子位 点击: 加载中

我国在芯片制造领域取得新突破!

经过近七年艰苦攻关,“超分辨光刻装备研制”项目通过验收。这意味着,现在中国有了“世界上首台分辨力最高的紫外(即22纳米@365纳米)超分辨光刻装备”。

换句话说,我国科学家研制成功了一种非常强大的光刻机。

光刻机,那可是芯片制造的核心装备。我国一直在芯片行业受制于人,在光刻机领域更是如此,时常遭遇国外掐脖子、禁售等种种制约。

中国芯片制造迈出一大步!中科院造出最强紫外超分辨光刻机

对于这次的突破,验收专家组的意见是:

该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。项目在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。

中国芯片制造迈出一大步!中科院造出最强紫外超分辨光刻机

消息一出,很多人都纷纷称赞,但大多数都是不明觉厉,当然也有人说是吹牛。这个消息背后,到底意味着什么呢?

TAG标签:芯片 光刻机 中国芯片 中科院 中科院光电所
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